Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Microstructural Studies of Ag/TiO2 Thin Film; Effect of Annealing Temperature

Tytuł:
Microstructural Studies of Ag/TiO2 Thin Film; Effect of Annealing Temperature
Autorzy:
Kamrosni, Abdul Razak
Dewi Suryani, Che Halin
Azliza, Azani
Mohd Mustafa Al Bakri, Abdullah
Mohd Arif Anuar, Mohd Salleh
Norsuria, Mahmed
Chobpattana, Varistha
Kaczmarek, L.
Jeż, Bartłomiej
Nabiałek, Marcin
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
Ag/TiO2
annealing temperature
microstructure
optical properties
thin film
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2022, 67, 1; 241-245
1733-3490
Język:
angielski
Prawa:
CC BY-NC-ND: Creative Commons Uznanie autorstwa - Użycie niekomercyjne - Bez utworów zależnych 3.0 PL
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
  Przejdź do źródła  Link otwiera się w nowym oknie
Microstructures are an important link between materials processing and performance, and microstructure control is essential for any materials processing route where the microstructure plays a major role in determining the properties. In this work, silverdoped titanium dioxide (Ag/TiO2) thin film was prepared by the sol-gel method through the hydrolysis of titanium tetra-isopropoxide and silver nitrate solution. The sol was spin coated on ITO glass substrate to get uniform film followed by annealing process for 2 hours. The obtained films were annealed at different annealing temperatures in the range of 300°C-600°C in order to observe the effect on crystalline state, microstructures and optical properties of Ag/TiO2 thin film. The thin films were characterized by X-Ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), and UV-Vis spectrophotometry. It is clearly seen, when the annealing temperature increases to 500°C, a peak at 2θ = 25.30° can be seen which refers to the structure of TiO2 tetragonal anatase. The structure of Ag/TiO2 thin film become denser, linked together, porous and uniformly distributed on the surface and displays the highest cut-off wavelength value which is 396 nm with the lowest band gap value, which is 3.10 eV.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Prześlij opinię

Twoje opinie są dla nas bardzo ważne i mogą być niezwykle pomocne w pokazaniu nam, gdzie możemy dokonać ulepszeń. Bylibyśmy bardzo wdzięczni za poświęcenie kilku chwil na wypełnienie krótkiego formularza.

Formularz