- Tytuł:
- Comparison of gate leakage current components in metal-insulator-semiconductor structures with high-k gate dielectris
- Autorzy:
-
Janik, T.
Jakubowski, A.
Majkusiak, B.
Korwin-Pawłowski, M. - Data publikacji:
- 2001
- Wydawca:
- Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
- Tematy:
-
MIS structures
ultrathin dielectrics
high-k dielectrics - Źródło:
-
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 65-69
1509-4553
1899-8852 - Język:
- angielski
- Prawa:
- Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
- Artykuł