- Tytuł:
- Applying shallow nitrogen implantation from rf plasma for dual gate oxide technology
- Autorzy:
-
Bieniek, T.
Beck, R. B.
Jakubowski, A.
Głuszko, G.
Konarski, P.
Ćwil, M. - Data publikacji:
- 2007
- Wydawca:
- Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
- Tematy:
-
CMOS
dual gate oxide
gate stack
oxynitride
plasma implantation - Źródło:
-
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 3-8
1509-4553
1899-8852 - Język:
- angielski
- Prawa:
- Wszystkie prawa zastrzeżone. Swoboda użytkownika ograniczona do ustawowego zakresu dozwolonego użytku
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
- Artykuł