- Tytuł:
- Temperature Effect on the Growth Rate and Physical Characteristics of SnO2 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
- Autorzy:
-
Kim, D.
Kim, D. H.
Riu, D.-H.
Choi, B. J. - Data publikacji:
- 2018
- Wydawca:
- Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
- Tematy:
-
atomic layer deposition
tin oxide
growth rate
film density
optical band gap - Źródło:
-
Archives of Metallurgy and Materials; 2018, 63, 2; 1061-1064
1733-3490 - Język:
- angielski
- Prawa:
- CC BY-NC-ND: Creative Commons Uznanie autorstwa - Użycie niekomercyjne - Bez utworów zależnych 3.0 PL
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
- Artykuł