Ablacja polikryształów CR₂TE₃ z wykorzystaniem lasera ND³⁺:YAG

W pracy badano proces laserowej ablacji Cr₂Te₃: dla potrzeb nanoszenia cienkich warstw tego materiału metodą impulsowego osadzania laserowego (PLD). Target przygotowano w formie sprasowanej pastylki z proszkowego Cr₂Te₃ domieszkowanego proszkowym Zn. Do odparowania tarczy zastosowano promieniowanie lasera ND³⁺:YAG o długości impulsu 20 ns i gęstości energii 16 J/cm² oraz 34 J/cm². Metodą EDX zbadano skład powierzchni targetu po ablacji. Stwierdzono nadmiar chromu co wskazuje na jego słabą desorpcję przy zastosowanych parametrach ablacji.

In the paper, the process of laser ablation of Cr₂Te₃ has been studied in the respect of its application to thin solid films deposition of this material in the pulsed laser deposition (PLD) technology. Target has been prepared in the shape of pressed tablet from powder Cr₂Te₃. The energy density of the ND³⁺:YAG laser beam were 16 J/cm² and 34 J/cm² and the time of laser pulse was 20 ns. The composition of the surface layer of the target after ablation has been measured using EDX method. The excess of chromium in respect to it amount in initial composition has been measured. This result points on the weak desorption of this component at the ablation parameters applied.