- Tytuł:
- Study of Silicon Nanocrystals Formation in Annealed Amorphous In Situ Nitrogen Doped Silicon Thin Films Obtained by Low Pressure Chemical Vapor Deposition
- Autorzy:
-
Bouridah, H.
Haoues, H.
Beghoul, M.
Mansour, F.
Remmouche, R.
Temple-Boyer, P. - Data publikacji:
- 2012-01
- Wydawca:
- Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
- Tematy:
-
68.55.ag
68.55.J-
61.46.Hk
81.07.Bc - Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł