- Tytuł:
- Novel Method of Improving Electrical Properties of Thin PECVD Oxide Films by Fluorination of Silicon Surface Region by RIE in RF CF4 Plasma
- Autorzy:
-
Kalisz, M.
Głuszko, G.
Beck, R. B. - Data publikacji:
- 2010
- Wydawca:
- Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
- Tematy:
-
capacitance-voltage characteristics
current-voltage characteristics
fluorine plasma
radio frequency reactive ion etching - Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł